在近日举行的数字文化创意内容应用服务研讨会上，英特尔Habana Labs中国区总经理于明扬指出，尽管以生成式AI为代表的大模型技术为数字文化创意产业带来了前所未有的变革潜力，但其距离实现规模化、高质量的成熟应用，仍需跨越关键障碍。他认为，当前亟需从三大方面补足短板，方能充分释放大模型在内容创作、交互体验与产业赋能上的巨大价值。
短板一：算力成本与能效比的双重挑战
于明扬首先强调了基础设施层面的核心制约。大模型的训练与推理，尤其是面向高质量图像、视频、3D内容生成及复杂剧情交互等数字文创高需求场景，对算力的需求呈指数级增长。高昂的算力成本直接拉高了创作与运营门槛，限制了中小型创意团队和企业的广泛接入。单纯的算力堆砌并不可持续，能效比成为关键指标。“我们必须推动专用AI芯片架构的创新，如采用Habana Gaudi等旨在提供更高训练与推理效率的解决方案，在提升性能的同时显著降低总体拥有成本（TCO），让更强大的计算能力变得可及、可用、可持续。”他解释道。这需要从硬件到软件栈的协同优化，构建更高效、绿色的算力基座。
短板二：领域知识与创意可控性的深度整合
技术能力与文化产业的专业知识之间仍存在“鸿沟”。于明扬指出，当前通用大模型在生成内容时，往往在文化内涵的准确性、艺术风格的独特性、价值导向的符合性以及叙事逻辑的连贯性上存在不足。数字文创作品强调思想性、艺术性和独创性，这要求模型不能仅是“鹦鹉学舌”，而需深度理解特定文化背景、艺术流派和创作意图。“未来的突破点在于‘领域精调’与‘可控生成’，”他表示，“需要将行业知识图谱、专家经验规则、风格化数据集与大模型能力深度结合，发展出更精细的提示工程、可控参数调整以及基于人类反馈的强化学习（RLHF）机制。目标是让AI从辅助工具进化成为真正理解创意总监意图、并能稳定输出符合专业要求的‘智能协作者’。”
短板三：应用生态与商业模式的成熟构建
技术最终价值体现在落地应用中。于明扬认为，大模型在数字文化产业的成熟应用，有待一个繁荣、分层且互操作的应用生态。当前，从底层算力平台、模型服务（MaaS）、到垂直行业应用（如AI编剧、数字人驱动、沉浸式场景生成）的链条尚未完全打通，工具碎片化、标准不统一等问题影响了开发效率和用户体验。清晰的商业模式仍在探索中。“我们需要协同产业链各方，共同构建开放、易用的开发工具链和API服务，降低技术集成难度。积极探索在内容IP开发、个性化体验、互动叙事、元宇宙构建等场景下的可持续商业模式，让技术创新能切实转化为文化生产力和市场竞争力。”
协同创新，共筑智能文创未来
于明扬道，补足上述短板非一日之功，亦非单一企业所能完成。它需要芯片厂商、算法公司、内容平台、文创机构以及政策制定者形成合力，在技术研发、标准制定、人才培养、应用试点和伦理规范等方面协同推进。英特尔及Habana Labs将持续致力于通过提供高性能、高能效的AI计算解决方案，并与中国本土合作伙伴紧密协作，共同推动大模型技术扎实落地，赋能数字文化产业向更高质量、更富创意、更高效率的方向演进，最终为全球用户带来前所未有的文化体验。
